1.材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設(shè)備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。

2.物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。

3. 生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應(yīng)器（合成器）等。

4. 對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。

5.醫(yī)療領(lǐng)域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波治療機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等。

6.對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

主要用途：

1、   對旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、光化學反應(yīng)儀光源部分進行低溫冷卻

2、   對雙層玻璃反應(yīng)釜夾層進行低溫冷卻和溫度控制

3、   對分光光度計的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制

4、   對超聲波破碎的試料進行低溫冷卻和溫度控制

5、   對激光加工機的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制

6、   對蝕刻裝置的電機部分進行低溫冷卻和溫度控制

7、   對電子顯微鏡的電源、光源部分進行低溫冷卻和溫度控制

8、   對工業(yè)用機械裝置的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制

9、   對電泳儀、粘度計、醫(yī)用冷帽、降溫毯進行低溫冷卻和溫度控制

10、對電鏡、分子泵、離子泵、擴散泵、微波治療機進行低溫冷卻和溫度控制

主要性能：

1、密閉型循環(huán)：冷卻盤管、保溫用套管等密閉回路的循環(huán)裝置。

2、節(jié)省空間：設(shè)計緊湊、有桌面臺式型、有受實驗臺高度限制的立式型。

3、水冷式冷凍機：配備水冷式冷凍機，因為不采用風扇排熱，對環(huán)境影響小。適合在沒有空調(diào)、換氣設(shè)備的室內(nèi)使用，也適合在無塵室使用。制冷系統(tǒng)具有延時、過熱、過電流多種保護裝置。均為進口原裝高品質(zhì)器件，保證可靠性和使用壽命。

4、配備進口高壓泵：配管尺寸較長，可平穩(wěn)的進行長距離循環(huán)、冷卻或恒溫機外實驗容器或建立第二恒溫場。

5、高密度耐腐蝕材料：可循環(huán)純水的循環(huán)泵、冷卻盤管、吐出口、回流口的關(guān)鍵接口都采用不銹鋼（SUS304）制造。

6、循環(huán)介質(zhì)類型：硅油、水、鹽水、純酒精等實驗室常用循環(huán)介質(zhì)。

7、微電腦控制：配置微電腦，能夠進行高精度的控制，具備各種安全性能;所有操作均在微機智能控制儀上按動觸摸軟鍵完成，操作簡單、直觀。

8、P.I.D.控制：極力排除影響溫度調(diào)節(jié)精度的外部因素，減小誤差。

9、室外設(shè)置型：裝置可以設(shè)置在室外，適合工廠、研究所不能設(shè)置在室內(nèi)的情況使用。

10、節(jié)能：配備進口變頻壓縮機，根據(jù)循環(huán)負荷量和冷凍機的電機功率做變頻調(diào)節(jié)。